钽及钽合金靶材

发布时间：

2013-11-07 11:52:38

主要分为8寸钽靶材和12寸钽靶材。

8寸钽靶材：采用电子束炉熔炼，纯度达到4N5以上，通过锻造、轧制、热处理加工，其晶粒尺寸可实现30-100μm。主要应用于高反射率涂层、光学滤波器、工具涂层等领域，能够提高光学元件对特定波长光线的反射率，减少光信号损失，提升光学系统的成像质量和光学性能，提高显示屏的响应速度、对比度和显示清晰度；在刀具、钻头等工具表面镀TaN/TaC涂层，能够显著提升工具的硬度与耐磨性。

12寸钽靶材：采用电子束炉熔炼，纯度达到6N以上，通过锻造、轧制、热处理加工，已突破钽靶坯制备关键技术，晶粒尺寸波动控制在±15um，织构分布均匀。产品主要用于集成电路芯片制造领域，在半导体芯片制造Cu/Ta工艺中，12英寸溅射钽靶坯用于制备防止Cu原子向存储单元Si扩散的阻挡层薄膜材料。目前公司已成为行业内主要的12英寸钽靶坯供应商。

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